Canon wird mit dem Bau eines neuen 345-Millionen-Dollar-Werks in der Präfektur Tochigi beginnen, um Geräte herzustellen, die in einem Schlüsselbereich der Halbleiterherstellung, der sogenannten Lithografie, verwendet werden. Dabei handelt es sich um einen Betrag, der den Bau einer Anlage und Ausrüstung zur Herstellung von Ultrapräzisionsgeräten abdeckt.
Der weltweite Halbleitermarkt hat jetzt erstmals die Marke von 500 Milliarden US-Dollar überschritten und wird voraussichtlich bis 2030 1 Billion US-Dollar erreichen. Canon produziert derzeit 30 % der weltweiten lithografischen Ausrüstung, etwa die Hälfte des nächsten Konkurrenten von ASML. Auch Intel und Taiwan Semiconductor kündigten ihre Expansion an.
Nikkei Asia merkt an, dass Canon aufgrund der hohen Kosten und des hohen Stromverbrauchs bestehender Geräte „eine Technologie der nächsten Generation namens Nanoimprint-Lithographie entwickeln wird“, und die Nanoimprint-Lithographie wird mit „feineren Linienbreiten“ arbeiten, was eine höhere Produktivität und kürzere Verarbeitungszeit bedeutet pro Berechnung für einen Chip. Berichten zufolge erwartet Canon eine 40-prozentige Reduzierung der Kosten des neuen Verfahrens sowie eine 90-prozentige Reduzierung des Stromverbrauchs.
Das neue Werk soll 2025 in Betrieb gehen und neben dem bestehenden Werk errichtet werden. Dies wird die erste Lithografieanlage von Canon seit 21 Jahren sein.
2022-10-05 20:04:19
Autor: Vitalii Babkin